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技術文章

石英玻璃材料簡介

石(shi)英玻璃的形(xing)成是由(you)于(yu)(yu)其熔體(ti)高溫(wen)黏度很高引起的結(jie)果(guo)。用于(yu)(yu)制作(zuo)半(ban)導(dao)體(ti)、電(dian)光(guang)(guang)源器(qi)、半(ban)導(dao)通(tong)信(xin)裝置(zhi)、激光(guang)(guang)器(qi)、光(guang)(guang)學儀器(qi)、實驗室(shi)儀器(qi)、電(dian)學設備(bei)、醫療(liao)設備(bei)和耐(nai)高溫(wen)耐(nai)腐蝕(shi)的化(hua)(hua)學儀器(qi)、化(hua)(hua)工、電(dian)子(zi)、冶(ye)金、建(jian)材(cai)以及國防等工業(ye),應(ying)用十分廣(guang)泛。高純石(shi)英玻璃可制光(guang)(guang)導(dao)纖(xian)維。

隨著半導體技術的發展,石英玻璃被廣泛的用于半導體生產的各項工序中。比(bi)如,直拉法(fa)把(ba)多晶轉(zhuan)化成(cheng)單晶硅;清洗時(shi)用的清洗槽;擴散時(shi)用的擴散管、刻槽舟;離子注(zhu)入時(shi)用的鐘罩(zhao)等(deng)等(deng)。

石英玻璃是一(yi)種只含(han)二氧化硅單(dan)一(yi)成份的特(te)種玻璃。由(you)于種類、工(gong)藝、原料(liao) 的不同,國(guo)外常常叫(jiao)做硅酸玻(bo)(bo)璃(li)、石(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)玻(bo)(bo)璃(li)、熔(rong)融石(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)、熔(rong)凝石(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)、合成熔(rong)融石(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying),以及沒有明(ming)確概(gai)念的透明(ming)、半(ban)透明(ming)、不透明(ming)石(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)等(deng)。我國(guo)統稱(cheng)石(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)玻(bo)(bo)璃(li),多按工(gong)藝方(fang)法、用(yong)途及外觀來分類(lei),如電熔(rong)透明(ming)石(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)玻(bo)(bo)璃(li)、連熔(rong)石(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)玻(bo)(bo)璃(li)、氣煉透明(ming)石(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)玻(bo)(bo)璃(li)、合成石(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)玻(bo)(bo)璃(li)、不透明(ming)石(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)玻(bo)(bo)璃(li)、光(guang)學石(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)玻(bo)(bo)璃(li)、半(ban)導體(ti)用(yong)石(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)玻(bo)(bo)璃(li)、電光(guang)源用(yong)石(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)(ying)玻(bo)(bo)璃(li)等(deng)。人們習慣于用(yong)石英這樣(yang)一個簡單的(de)詞匯(hui)來命名這種材料(liao),這是絕對不妥的(de),因(yin)為石英是二氧化(hua)硅(gui)結晶態(tai)(tai)的一種通稱(cheng),它(ta)與玻璃態(tai)(tai)二氧化(hua)硅(gui)在(zai)理化(hua)性質上是有區別(bie)的。

石(shi)英玻(bo)璃具有(you)極(ji)低(di)的(de)(de)(de)熱(re)膨(peng)脹系(xi)數,高(gao)(gao)的(de)(de)(de)耐(nai)溫(wen)性(xing),極(ji)好的(de)(de)(de)化(hua)(hua)學穩(wen)定性(xing),優良的(de)(de)(de)電(dian)絕緣性(xing),低(di)而(er)穩(wen)定的(de)(de)(de)超聲延遲性(xing)能(neng)(neng),最佳的(de)(de)(de)透紫(zi)外(wai)光譜性(xing)能(neng)(neng)以及透可見光及近紅外(wai)光譜性(xing)能(neng)(neng),并(bing)有(you)著高(gao)(gao)于普通玻(bo)璃的(de)(de)(de)機械性(xing)能(neng)(neng)。因此它(ta)是近代尖端技(ji)術中空間(jian)技(ji)術、原子能(neng)(neng)工(gong)業(ye)、國防裝(zhuang)備、自(zi)動化(hua)(hua)系(xi)統(tong),以及半導體(ti)、冶金(jin)、化(hua)(hua)工(gong)、電(dian)光源、通訊、輕工(gong)、建材等工(gong)業(ye)中不可缺少的(de)(de)(de)優良材料之一。

石英(ying)玻璃(li)(li)是用天然結晶(jing)石英(ying)(水晶(jing)或(huo)(huo)純(chun)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)硅石),或(huo)(huo)合成(cheng)硅烷經高(gao)溫熔制而成(cheng)。熔融后的(de)(de)(de)(de)(de)(de)產品具有(you)極好的(de)(de)(de)(de)(de)(de)加(jia)工(gong)性能,在其高(gao)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)粘度范圍內,可以將(jiang)管和棒進(jin)行(xing)(xing)有(you)如普通玻璃(li)(li)細(xi)工(gong)一樣(yang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)熱加(jia)工(gong),還(huan)可以用金剛石或(huo)(huo)碳化硅制成(cheng)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)磨(mo)具進(jin)行(xing)(xing)高(gao)速(su)機械加(jia)工(gong),從(cong)而制成(cheng)各種復雜形狀的(de)(de)(de)(de)(de)(de)儀器(qi)和特種制品。石英(ying)玻璃(li)(li)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)性能主要取決于它的(de)(de)(de)(de)(de)(de)純(chun)度,其次是工(gong)藝過程(cheng)或(huo)(huo)熱工(gong)制度。微量雜質(zhi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)存在將(jiang)給(gei)(gei)石英(ying)玻璃(li)(li)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)使用性能帶來重大的(de)(de)(de)(de)(de)(de)影響;同(tong)時由于工(gong)藝過程(cheng)或(huo)(huo)熱工(gong)制度的(de)(de)(de)(de)(de)(de)稍(shao)有(you)疏(shu)忽,將(jiang)給(gei)(gei)外(wai)觀質(zhi)量帶來多(duo)種多(duo)樣(yang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)缺陷,產生大量的(de)(de)(de)(de)(de)(de)廢次產品。

純度(du)是(shi)石英玻璃的(de)(de)(de)重要指標,對理(li)化性(xing)(xing)能和(he)使(shi)用性(xing)(xing)能影響(xiang)(xiang)甚大,如(ru)失透性(xing)(xing)、高(gao)溫強度(du)、軟(ruan)化點、光的(de)(de)(de)傳(chuan)導、熱穩(wen)定(ding)性(xing)(xing)、化學穩(wen)定(ding)性(xing)(xing)、耐(nai)輻射性(xing)(xing)、熒光特性(xing)(xing)等;此外,用于半導體工業的(de)(de)(de)石英玻璃,對純度(du)的(de)(de)(de)要求(qiu)更為苛刻,微(wei)量的(de)(de)(de)雜(za)質(zhi)將給半導體材(cai)料的(de)(de)(de)電性(xing)(xing)能和(he)壽命以(yi)及集(ji)成度(du)帶來嚴重的(de)(de)(de)影響(xiang)(xiang)。由于半導體材(cai)料的(de)(de)(de)純度(du)要求(qiu)控制在ppb數量(liang)級以(yi)下,因此石英(ying)玻璃則應控制在PPm數量級以適應半導體(ti)工業的需(xu)要。B的(de)分(fen)凝系數近(jin)于1,最難除掉(diao),是最有(you)害的(de)雜質(zhi)之(zhi)一,CuFeTi等影響半(ban)導體的少子壽(shou)命,KNaLi是(shi)單(dan)晶材料產(chan)生(sheng)微缺陷的有害雜質(zhi)。

失透(tou)(又(you)叫析晶性)是石(shi)英玻璃的一(yi)個固(gu)有缺陷(xian),從熱力(li)學(xue)觀點看,石(shi)英玻璃 的內能高于(yu)結晶態方石英,屬熱力(li)學上不穩定的亞穩態,當溫(wen)度高于(yu)1000時,SiO2 分(fen)子振動加速,經一段較(jiao)長時間的(de)重新(xin)排(pai)列、定(ding)向便形成(cheng)結晶(jing)。失透(tou)性是以晶(jing)核成(cheng)長速度(du)來表示(shi)的(de),不透(tou)明石(shi)英玻璃在(zai)1520、透明石英玻璃在1620析晶速度分別達到最大值。 析晶(jing)主要出現在(zai)表面(mian),其(qi)次是內部缺陷處,原(yuan)因是這些地方容(rong)易沾污(wu),引起(qi)雜質(zhi)離(li)子的局(ju)部集(ji)聚,特別是堿離(li)子(如KNaLiCaMg等(deng))進入網絡后引(yin)起粘度(du)降(jiang)低,促使失透加速(su)。 由(you)于石英(ying)玻璃的熱膨脹(zhang)系數和比重(zhong)同析晶產物β-方石英相近,所以在(zai)高溫下(xia)連續使用時,盡管析晶區不斷擴(kuo)大,但體積變化(hua)并不明顯,仍可滿意地繼續使用,此時尚(shang)可減輕玻璃(li)的塑性(xing)變形,使耐火(huo)度(du)提(ti)高。當析晶產物(wu)冷卻(que)到(dao)800時,則出現細小的龜(gui)裂(lie)網絡。繼(ji)續冷(leng)卻(que)到200-275時,則出現方石英從(cong)高溫型到低(di)溫型(即β-方石英→a-方石英)的結構變化,并伴(ban)隨(sui)著發生體積聚(ju)變,如果析晶(jing)層很(hen)深,則石英玻(bo)璃(li)亦隨(sui)之破裂。由(you)于(yu)析晶(jing)常常出現在有雜(za)質的地方,所以高溫使用前的表面狀態及周圍(wei)耐火(huo)材(cai)料、氣(qi)氛十(shi)分重要。

石英(ying)玻璃(li)(li)(li)屬酸(suan)(suan)性(xing)材料,除(chu)氫氟酸(suan)(suan)和熱磷(lin)酸(suan)(suan)外,對其它任何酸(suan)(suan)均表現(xian)為惰(duo)性(xing),是(shi)(shi)最好的(de)(de)(de)耐酸(suan)(suan)材料。在常溫下堿和鹽對石英(ying)玻璃(li)(li)(li)的(de)(de)(de)腐(fu)蝕程度(du)也是(shi)(shi)極微的(de)(de)(de),因此不排除(chu)在這些試劑中使用石英(ying)玻璃(li)(li)(li)。透(tou)明(ming)(ming)石英(ying)玻璃(li)(li)(li)比(bi)不透(tou)明(ming)(ming)石英(ying)玻璃(li)(li)(li)具有(you)更好的(de)(de)(de)化學穩定性(xing),這是(shi)(shi)因為后(hou)者由于氣泡(pao)的(de)(de)(de)存(cun)在暴(bao)露(lu)在腐(fu)蝕液中的(de)(de)(de)表面積增(zeng)加所致(zhi)。

石英(ying)玻璃(li)(li)(li)的(de)(de)(de)結構十分松弛,甚至(zhi)在高(gao)溫(wen)下(xia)還允許某些氣體的(de)(de)(de)離子(zi)通過網絡(luo)進行擴散(san),其中以鈉離子(zi)的(de)(de)(de)擴散(san)為(wei)最(zui)快。石英(ying)玻璃(li)(li)(li)的(de)(de)(de)這一(yi)性(xing)能對于(yu)使用(yong)者(zhe)尤為(wei)重(zhong)要,例如,半導體工業用(yong)石英(ying)玻璃(li)(li)(li)作(zuo)(zuo)為(wei)高(gao)溫(wen)容器或擴散(san)管時,由于(yu)半導體材(cai)(cai)料要求很高(gao)的(de)(de)(de)純度,所以要求與(yu)石英(ying)玻璃(li)(li)(li)接觸的(de)(de)(de)作(zuo)(zuo)為(wei)爐襯的(de)(de)(de)耐火(huo)材(cai)(cai)料必須預先經(jing)過高(gao)溫(wen)和清(qing)潔處理,除掉鉀(jia)、鈉等堿性(xing)雜質,然(ran)后才能放入石英(ying)玻璃(li)(li)(li)內使用(yong)。

石英玻璃的光學性能有(you)其獨到之處,它既可以(yi)透(tou)過遠(yuan)紫外光譜(pu),是所有(you)透(tou)紫外材料(liao)最優者(zhe),又可透(tou)過可見光和近紅外光譜(pu)。用戶可以(yi)根據需要,從185-3500mμ波段范圍內(nei)任(ren)意選擇所(suo)需品種(zhong)。由于石(shi)英玻璃(li)耐高溫,熱膨脹系數極(ji)小(xiao),化(hua)學(xue)熱穩定性(xing)好,氣泡(pao)、條紋、均(jun)勻(yun)性(xing)、雙折射又可(ke)與(yu)一般光學(xue)玻璃(li)媲美(mei),所(suo)以它是在各種(zhong)惡劣場合下工作具有(you)高穩定度(du)光學(xue)系統(tong)的必(bi)不可(ke)少的光學(xue)材(cai)料。石(shi)英玻璃(li)的結構,雜質含量,OH基因及NOCO等含量是(shi)影響光譜透(tou)過率的主要因素,氧原子結合不良在0.24μ處則有吸收峰,含有OH基團的石英(ying)玻璃,在2.7μ處由(you)于分子(zi)(zi)振動(dong)將(jiang)產(chan)生(sheng)明顯的吸(xi)收(shou)峰(feng),紫外透過率低主要是由(you)于金(jin)屬雜質多造成原子(zi)(zi)吸(xi)收(shou)光譜(pu)所致(zhi)。 石英玻璃的(de)光(guang)譜(pu)特(te)性曲線(xian) 電(dian)熔石英玻璃是很好(hao)的(de)透紅外(wai)材料,但由于雜(za)質(zhi)的(de)存(cun)在(zai),紫外(wai)透過率低。氫(qing)氧(yang)(yang)焰熔制水晶(jing)所獲得的(de)石英玻璃,由于氧(yang)(yang)結構缺陷,在(zai)0.24μ處有吸收(shou)峰(feng),同(tong)時(shi)含有OH基團(tuan),所以紅外透(tou)過(guo)極低(di)。用合成(cheng)原(yuan)料氣煉的高純光學石英玻璃是最好的透(tou)紫外材料,但在2.7μ處(chu)有(you)嚴重的OH吸收(shou)峰。只有用(yong)合成原料通過電(dian)熔或無氫(qing)火焰熔融而成的(de)光學石(shi)英玻璃,才能很好地透過從遠紫(zi)外(wai)到近(jin)紅(hong)外(wai)的(de)連續光譜。

石(shi)英玻(bo)璃的熱膨脹系(xi)數小,為5.5×10-7/,只有(you)普通玻璃的1/121/20.標準規(gui)定將(jiang)試(shi)樣灼燒(shao)到1200后急(ji)速投到冷(leng)水中(zhong),反復三次以上不允許(xu)炸(zha)裂。石英玻璃加入適量鈦元素后還(huan)可做成零膨脹(zhang)系數的材料(liao),在激(ji)光技術(shu)、天文和尖端(duan)技術(shu)中(zhong)。

注意事(shi)項:

1.
石英玻璃制品是貴(gui)重的材料,使用(yong)時必(bi)須輕(qing)拿輕(qing)放,十分小心(xin);

2.各種石英玻璃都有一個最(zui)高使(shi)用溫度,使(shi)用時不(bu)應(ying)超過此溫度,否(fou)則會析晶或(huo)軟(ruan)化變(bian)形;

3.需(xu)高溫使用(yong)的石英(ying)玻璃,使用(yong)前(qian)必須擦拭干(gan)凈。可以(yi)用(yong)10%的氫氟酸或(huo)洗液浸(jin)泡,然(ran)后用高純水清洗或(huo)酒精處理。操作時應(ying)戴細(xi)線(xian)手(shou)套,不允(yun)許用手(shou)直(zhi)接觸及石英玻璃;

4.高(gao)(gao)溫(wen)下(xia)允許(xu)連(lian)續使用石(shi)(shi)英(ying)玻璃制品(pin),這對延長石(shi)(shi)英(ying)玻璃的壽命(ming)和提高(gao)(gao)耐溫(wen)性能是有(you)好處的。反之,高(gao)(gao)溫(wen)下(xia)間歇使用石(shi)(shi)英(ying)玻璃制品(pin),其使用次數(shu)是有(you)限的;

5.石(shi)英玻璃(li)材質雖(sui)具有極高的(de)熱(re)穩定性,可以經受(shou)劇烈的(de)溫差驟變。但實際使用(yong)時,由于殘(can)余應變和產品(pin)形狀不同(tong),熱(re)穩定性有一定的(de)差別,使用(yong)時應加以注意;

6.石(shi)英玻(bo)璃(li)系酸性材料,高溫使用(yong)時嚴格避免同堿性物(wu)(wu)質(如水玻(bo)璃(li)、石(shi)棉、鉀鈉的化合物(wu)(wu)等)接觸,否則將(jiang)大(da)(da)大(da)(da)降低其(qi)抗結晶性能(neng)。

主要性(xing)能

不同的性能

參(can)數(shu)

JGS1

JGS2

JGS3

尺寸

<Φ200mm

<Φ300mm

<Φ200mm

透過范圍
(
透過(guo)比)

0.17~2.10um
(Tavg>90%)

0.26~2.10um
(Tavg>85%)

0.25~3.50um
(Tavg>85%)

調制(zhi)解調器容量

1200 ppm

150 ppm

5 ppm

熒光(guang)度 (ex 254nm)

Virtually Free

Strong v-b

Strong V-B

雜質容量

5 ppm

20-40 ppm

40-50 ppm

應力雙折射

2-4 nm/cm

4-6 nm/cm

4-10 nm/cm

熔融法

Synthetic CVD

Oxy-hydrogen melting

Electrical melting

應(ying)用

Laser substrate: Window, lens, prism, mirror...

Semiconductor and high temperature window

IR substrate

相同的性能

密度

2.20g/cm3

阿貝系數

67.6

折射(she)率 (nd) 588nm

1.4586

波長 (um)

折(zhe)射(she)率 (n)

波長 (um)

折射率 (n)

0.200

1.55051

1.000

1.45042

0.220

1.52845

1.064

1.44962

0.250

1.50745

1.100

1.44920

0.300

1.48779

1.200

1.44805

0.320

1.48274

1.300

1.44692

0.360

1.47529

1.500

1.4462

0.400

1.47012

1.600

1.44342

0.450

1.46557

1.700

1.44217

0.488

1.46302

1.800

1.44087

0.500

1.46233

1.900

1.43951

0.550

1.46008

2.000

1.43809

0.588

1.45860

2.200

1.43501

0.600

1.45804

2.400

1.43163

0.633

1.45702

2.600

1.42789

0.650

1.45653

2.800

1.42377

0.700

1.45529

3.000

1.41925

0.750

1.45424

3.200

1.41427

0.800

1.45332

3.370

1.40990

0.850

1.45250

3.507

1.40566

0.900

1.45175

3.707

1.39936

 






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