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納(na)米圖案(an)硅印(yin)章
簡介：

納米圖案硅印章由在單晶硅基板上形成圖案的納米級紋理表面組成。通過反應離子蝕刻，具有梯形橫截面的線性凹槽被蝕刻到基板表面，類似于傳統的光柵。蝕刻工藝可為這些凹槽提供不同的周期和深度規格，以及更復雜的圖案，例如晶格。II-VI LightSmyth? 納米圖案硅印章是光學和光子學、生物學、化學、納米壓印和微流體領域的納米光子學研究應用的理想選擇。
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產品詳情(qing)
  • 納(na)米級紋理凹槽(cao)表面(mian)
  • 可(ke)變凹槽(cao)周期和凹槽(cao)深(shen)度
  • 納米光子(zi)學研究(jiu)應用的理想選擇


產品編碼

周期 (nm)

尺寸 (mm)

線條寬(kuan)度(nm)

槽深(shen)(nm)

單價（元）

16-855

855

12.50 x 12.50

425

200 ±30

5100

16-856

855

25.00 x 25.00

425

200 ±30

10200

16-857

139

12.50 x 12.50

50

50 ±7.5

6200

16-858

139

25.00 x 25.00

50

50 ±7.5

20300





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